產(chǎn)品名稱(chēng)：二手蔡司場(chǎng)發(fā)射電鏡SUPRA 40VP
產(chǎn)品型號(hào)：
更新時(shí)間：2024-04-29
產(chǎn)品特點(diǎn)：二手蔡司場(chǎng)發(fā)射電鏡SUPRA 40VP是一款高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，擁有第三代GEMINI 鏡筒，可變壓強(qiáng)性能加上多種納米工具的使用，不用花費(fèi)大量時(shí)間，使高分辨率成像和非導(dǎo)體樣本的分析成為可能，超大的樣品室適合各種類(lèi)型探頭及配件的選擇。該場(chǎng)發(fā)射電鏡適用于材料領(lǐng)域、失效分析、過(guò)程控制，納米技術(shù)等。
產(chǎn)品詳細(xì)資料：
二手蔡司場(chǎng)發(fā)射電鏡SUPRA 40VP蔡司新一代蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有高質(zhì)量的成像和分析能力，將*進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)與優(yōu)秀的用戶(hù)體驗(yàn)結(jié)合。利用Sigma系列直觀(guān)的4步工作流程，在更短的時(shí)間內(nèi)獲得更多的數(shù)據(jù)，提高測(cè)試與生產(chǎn)效率。可選配多種探測(cè)器，以滿(mǎn)足半導(dǎo)體、能源等新材料、磁性樣品、生物樣品、地質(zhì)樣品等不同的應(yīng)用需求。結(jié)合蔡司原位電鏡實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)智能化的原位實(shí)驗(yàn)工作流程，高效率獲取高通量、高質(zhì)量的原位實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。EDS幾何設(shè)計(jì)保證了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、結(jié)果可靠。高分辨、全分析、多擴(kuò)展、強(qiáng)智能、廣應(yīng)用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科學(xué)和工業(yè)檢測(cè)等領(lǐng)域的“多面手"。
[ 產(chǎn)品特點(diǎn) ]
ü Gemini鏡筒設(shè)計(jì)，低電壓高分辨，無(wú)漏磁
ü 廣泛全面的應(yīng)用場(chǎng)景
ü 豐富靈活的探測(cè)手段
ü 智能高效的工作流程
ü *進(jìn)可靠的分析系統(tǒng)
ü 強(qiáng)大完善的擴(kuò)展平臺(tái)
[ 應(yīng)用領(lǐng)域 ]
ü 材料科學(xué)，如納米材料高分辨成像，高分子聚合物等不導(dǎo)電樣品成像，電池材料成分襯度成像，二維材料分析
ü 生命科學(xué)，如生物樣品超微結(jié)構(gòu)成像，冷凍樣品高分辨成像
ü 地質(zhì)礦物學(xué)，如地質(zhì)樣品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼聯(lián)用分析
ü 工業(yè)應(yīng)用，如組件失效分析，工藝診斷
ü 電子半導(dǎo)體行業(yè)，如質(zhì)量控制與分析，6英寸Wafer快速換樣，電子束曝光技術(shù)（EBL）
ü 鋼鐵行業(yè)，如夾雜物分析，金屬材料自動(dòng)原位成像分析
ü 刑偵、法醫(yī)學(xué)
ü 考古學(xué)、文物保護(hù)與修復(fù)
NanoVP lite模式下斷裂的聚苯乙烯表面成像
氧化鋁顆粒高分辨二次電子成像
ETSE探測(cè)器氧化鋅枝晶成像 InLens SE探測(cè)器氧化鋯&氧化鐵復(fù)合材料成像
用于高品質(zhì)成像與高級(jí)分析的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
靈活的探測(cè)，4步工作流程，高級(jí)的分析性能
將高級(jí)的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。
Sigma 300 性?xún)r(jià)比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
二手蔡司場(chǎng)發(fā)射電鏡SUPRA 40VP用于清晰成像的靈活探測(cè)
利用*進(jìn)探測(cè)術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測(cè)器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測(cè)器，獲取高達(dá)50%的信號(hào)圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測(cè)器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對(duì)比度的銳利的圖像。
自動(dòng)化加速工作流程
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶(hù)環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
接下來(lái)對(duì)樣品感興趣的區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化并自動(dòng)采集圖像。最后使用工作流程的最后一步，將結(jié)果可視化。
高級(jí)分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 背散射幾何探測(cè)器大大提升了分析性能，特別是對(duì)電子束敏感的樣品。
在一半的檢測(cè)束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無(wú)陰影的分析結(jié)果。
基于成熟的 Gemini 技術(shù)
Gemini 鏡頭的設(shè)計(jì)結(jié)合考慮了電場(chǎng)與磁場(chǎng)對(duì)光學(xué)性能的影響，并將場(chǎng)對(duì)樣品的影響降至更低。這使得即使對(duì)磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測(cè)確保了信號(hào)探測(cè)的效率，通過(guò)二次檢測(cè)(SE)和背散射(BSE)元件同時(shí)減少成像時(shí)間。
Gemini 電子束加
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