產品名稱：二手 蔡司 sigma300 場發(fā)射電鏡
產品型號：
更新時間：2025-06-10
產品特點：二手 蔡司 sigma300 場發(fā)射電鏡分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
產品詳細資料：
二手 蔡司 sigma300 場發(fā)射電鏡用于清晰成像的靈活探測：
◆利用優(yōu)良探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
◆利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
◆利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程：
◆4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
◆首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
◆接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的最后一步，將結果可視化。
高級分析型顯微鏡：
◆將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
◆在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
◆8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
靈活的檢測器選項，獲取清晰圖像：
◆使用新穎的ETSE和Inlens探測器在高真空下獲取高分辨率表面形貌信息。
◆使用VPSE或C2D檢測器在可變壓力模式下獲得清晰圖像。
◆使用aSTEM檢測器生成高分辨率透射圖像。
◆使用HDBSD或YAG檢測器分析成分。
二手 蔡司 sigma300 場發(fā)射電鏡技術參數
主要技術參數 | |||
蔡司Sigma 300 | 蔡司Sigma 500 | ||
電子槍 | 肖特基場發(fā)射 | 肖特基場發(fā)射 | |
15kV 對應分辨率 | 1.0 nm | 0.8 nm | |
1kV 對應分辨率 | 1.6 nm | 1.4 nm | |
背散射電子探測器類型 | HD BSD | HD BSD | |
最大掃描速度 | 50 ns/pixel | 50 ns/pixel | |
加速電壓 | 0.02 – 30 kV | 0.02 – 30 kV | |
放大倍率 | 10× – 1,000,000 × | 10× – 1,000,000 × | |
探針束流 | 3pA -20nA (選 20nA ) 6pA -100nA (選 100nA) | 3pA -20nA (選 20nA ) 6pA -100nA (選 100nA) | |
圖像存儲分辨率 | 32 k × 24 k pixels | ||
接口 | 12 | ||
能譜接口 | 2 ( 1 個 EDS 專用及誒口) 3 (2 個 EDS 專用及誒口) | ||
高真空模式 | Yes | Yes | |
樣品倉尺寸 | 365 mm (?) x 275 mm (h) | 2 – 133 Pa 358 mm (?) x 270.5 mm (h) | |
樣品臺種類 | 全電動5軸樣品臺 可選配全電動5軸樣品臺 | 全電動5軸優(yōu)中心樣品臺 | |
X 方向移動范圍 | 125mm | 130mm | 125mm |
Y 方向移動范圍 | 125mm | 130mm | 125mm |
Z 方向移動范圍 | 50mm | 50mm | 50mm |
傾斜范圍 | -10 to +90 degrees | -3 to +70 degrees -10 to +90 degrees | |
旋轉范圍 | 360° Continuous | 360° Continuous 360° Continuous | |
最大樣品載重 | Up to 0.5 kg all axes, up to 2kg without tilt, up to 5 kg on XY platform only Up to 0.5 kg | Up to 0.5 kg all axes, up to 2kg without tilt, up to 5 kg on XY platform only | |
最大樣品尺寸 | 250 mm (?) x 145 mm (h), With the ZTR module removed; At the analytical working distance | ||
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